| 注册
首页|期刊导航|中国机械工程|纳米压印光刻技术及其设备研制

纳米压印光刻技术及其设备研制

董晓文 司卫华 顾文琪

中国机械工程2005,Vol.16Issue(z1):398-400,3.
中国机械工程2005,Vol.16Issue(z1):398-400,3.

纳米压印光刻技术及其设备研制

Design of a Nanoimprint Lithography System

董晓文 1司卫华 2顾文琪1

作者信息

  • 1. 中国科学院电工研究所,北京,100080
  • 2. 中国科学院研究生院,北京,100039
  • 折叠

摘要

关键词

纳米压印/纳米结构/热压印/模版

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

董晓文,司卫华,顾文琪..纳米压印光刻技术及其设备研制[J].中国机械工程,2005,16(z1):398-400,3.

中国机械工程

OA北大核心CSCD

1004-132X

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文