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乙醛酸化学镀铜的电化学研究

吴丽琼 杨防祖 黄令 孙世刚 周绍民

电化学2005,Vol.11Issue(4):402-406,5.
电化学2005,Vol.11Issue(4):402-406,5.

乙醛酸化学镀铜的电化学研究

An Electrochemical Study of Electroless Copper Plating Using Glyoxylic Acid as Reducing Agent

吴丽琼 1杨防祖 1黄令 1孙世刚 1周绍民1

作者信息

  • 1. 厦门大学化学化工学院,固体表面物理化学国家重点实验室,福建,厦门,361005
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摘要

关键词

化学镀铜/乙醛酸/络合剂/添加剂/极化

分类

化学化工

引用本文复制引用

吴丽琼,杨防祖,黄令,孙世刚,周绍民..乙醛酸化学镀铜的电化学研究[J].电化学,2005,11(4):402-406,5.

基金项目

国家科技攻关计划项目(2004BA325C),国家"973"项目(2002CB211804)资助 (2004BA325C)

电化学

OA北大核心CSCD

1006-3471

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