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脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积

李建国 刘实 李依依 胡东平 李军 季锡林 李力 周德惠

金刚石与磨料磨具工程Issue(4)：40-42,45,4.
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金刚石与磨料磨具工程Issue(4)：40-42,45,4.

脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积

DEPOSITION OF HIGH QUALITY DIAMOND FILM BY PULSED NEGATIVE BIAS-ENHANCED TECHNIQUE

李建国 1刘实 2李依依 1胡东平 1李军 2季锡林 2李力 2周德惠2

作者信息

  • 1. 中国科学院金属研究所,辽宁,沈阳,110016
  • 2. 中国工程物理研究院,四川省绵阳市919信箱401分箱,621900
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摘要

关键词

脉冲偏压/金刚石薄膜/频率

分类

化学化工

引用本文复制引用

李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠..脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积[J].金刚石与磨料磨具工程,2004,(4):40-42,45,4.

基金项目

中国工程物理研究院军民两用技术资助(项目号:02M-51) （项目号:02M-51）

金刚石与磨料磨具工程

OA北大核心CSTPCD

1006-852X

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