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射频磁控溅射法制备SnO2:Sb透明导电薄膜的光电性能研究

陈甲林 赵青南 张君

液晶与显示2005，Vol.20Issue(5)：406-411,6.
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液晶与显示2005，Vol.20Issue(5)：406-411,6.

射频磁控溅射法制备SnO2:Sb透明导电薄膜的光电性能研究

Optical and Electronic Properties of SnO2:Sb Transparent Conductive Thin Film Deposited by R.F. Magnetron Reactive Sputtering

陈甲林 1赵青南 1张君1

作者信息

  • 1. 武汉理工大学,材料科学与工程学院,硅酸盐材料工程教育部重点实验室,湖北,武汉,430070
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摘要

关键词

射频磁控溅射/透明导电薄膜/光电性能/氧气分压

分类

数理科学

引用本文复制引用

陈甲林,赵青南,张君..射频磁控溅射法制备SnO2:Sb透明导电薄膜的光电性能研究[J].液晶与显示,2005,20(5):406-411,6.

基金项目

横向开发资助项目(No.204-649491) （No.204-649491）

液晶与显示

OA北大核心CSCD

1007-2780

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