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脉冲偏压对TiAlN/TiN多层膜生长及熔滴的影响

宫永辉 毛延发 唐卫国 刘金良 冯博学 韩培刚

深圳大学学报（理工版）2007，Vol.24Issue(4)：410-413,4.
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深圳大学学报（理工版）2007，Vol.24Issue(4)：410-413,4.

脉冲偏压对TiAlN/TiN多层膜生长及熔滴的影响

Influence of DC pulse-bias on growing processes and droplets of TiAlN/TiN coating

宫永辉 1毛延发 2唐卫国 3刘金良 3冯博学 3韩培刚4

作者信息

  • 1. 深圳大学机电与控制工程学院,深圳,518060
  • 2. 西安建筑科技大学冶金工程学院,西安,710055
  • 3. 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000
  • 4. 深圳市广大纳米工程技术有限公司,深圳,518172
  • 折叠

摘要

关键词

脉冲偏压/TiAlN/TiN膜/生长过程/熔滴/多弧离子镀

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

宫永辉,毛延发,唐卫国,刘金良,冯博学,韩培刚..脉冲偏压对TiAlN/TiN多层膜生长及熔滴的影响[J].深圳大学学报（理工版）,2007,24(4):410-413,4.

基金项目

深圳大学科研启动基金资助项目(200536) （200536）

深圳大学学报（理工版）

OA北大核心CSTPCD

1000-2618

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