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微波ECR磁控溅射制备SiNx薄膜的XPS结构研究

丁万昱 徐军 陆文琪 邓新绿 董闯

物理学报2009，Vol.58Issue(6)：4109-4116,8.
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物理学报2009，Vol.58Issue(6)：4109-4116,8.

微波ECR磁控溅射制备SiNx薄膜的XPS结构研究

An XPS study on the structure of SiNx film deposited by microwave ECR magnetron sputtering

丁万昱 1徐军 2陆文琪 2邓新绿 2董闯2

作者信息

  • 1. 大连交通大学光电材料与器件研究所,大连,116028
  • 2. 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024
  • 折叠

摘要

关键词

SiNx/磁控溅射/XPS/化学键结构

分类

数理科学

引用本文复制引用

丁万昱,徐军,陆文琪,邓新绿,董闯..微波ECR磁控溅射制备SiNx薄膜的XPS结构研究[J].物理学报,2009,58(6):4109-4116,8.

基金项目

国家自然科学基金重大项目(批准号:50390060)和国家自然科学基金(批准号:60576022,50572012)资助的课题. （批准号:50390060）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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