物理学报2009，Vol.58Issue(6)：4123-4127,5.
椭圆偏振技术研究VHF-PECVD高速沉积微晶硅薄膜的异常标度行为
A spectroscopic ellipsometry study of the abnormal scaling behavior of high-rate-deposited microcrystalline silicon films by VHF-PECVD technique
摘要
关键词
微晶硅薄膜/椭偏光谱法/生长机制/表面粗糙度分类
数理科学引用本文复制引用
谷锦华,丁艳丽,杨仕娥,郜小勇,陈永生,卢景霄..椭圆偏振技术研究VHF-PECVD高速沉积微晶硅薄膜的异常标度行为[J].物理学报,2009,58(6):4123-4127,5.基金项目
国家重点基础研究发展计划(批准号:2006CB202601)和河南省自然科学基金(批准号:82300443203)资助的课题. （批准号:2006CB202601）
