华中科技大学学报（自然科学版）2008，Vol.36Issue(7)：41-44,4.
直立平板电极反应室中硅粉粒的表面刻蚀
Surface etching of silicon particulates between vertical planar electrodes
摘要
关键词
等离子体/粉粒表面刻蚀/沉降时间/刻蚀速率分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
李战春,尹盛,赵亮,王敬义..直立平板电极反应室中硅粉粒的表面刻蚀[J].华中科技大学学报（自然科学版）,2008,36(7):41-44,4.基金项目
国家自然科学基金资助项目(10475029). （10475029）
