人工晶体学报2004，Vol.33Issue(3)：414-418,5.
气压对VHF-PECVD制备的μc-Si:H 薄膜特性影响的研究
A Study on the Influence of Deposition Pressure on the Properties of the μc-Si:H Films Fabricated by VHF-PECVD
摘要
关键词
甚高频等离子体增强化学气相沉积/氢化微晶硅薄膜/傅立叶变换红外光谱/X射线衍射/微区喇曼光谱分类
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张晓丹,朱锋,赵颖,侯国付,魏长春,孙建,张德坤,任慧志,薛俊明,耿新华,熊绍珍..气压对VHF-PECVD制备的μc-Si:H 薄膜特性影响的研究[J].人工晶体学报,2004,33(3):414-418,5.基金项目
国家"973"研究项目(No.G2000028202,G2000028203) （No.G2000028202,G2000028203）
教育部重点项目(No.02167)和"863"项目(No.2002303261)资助 （No.02167）
