金属的化学-机械抛光技术研究进展OA北大核心CSCDCSTPCD
Recent Advancement of Chemical-Mechanical Polishing Technology of Metal
介绍了近年来金属化学-机械抛光(CMP)技术的一些研究进展. 内容包括CMP技术的实验方法进展与抛光效果的表征,CMP设备与消耗品的发展. 分析了目前CMP技术存在的问题,提出了可能解决问题的一些建议. 认为定量CMP速率方程的建立是解决好终点在线检测的关键之一.
何捍卫;胡岳华;周科朝;徐竞
中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083中南大学资源加工与生物工程学院,长沙中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083中南大学资源加工与生物工程学院,长沙
化学化工
金属化学机械抛光综述
《应用化学》 2003 (5)
415-419,5
国家杰出青年科学基金资助(59925412)
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