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铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究

张际亮 沃银花 郦剑 甘正浩

材料科学与工程学报2005，Vol.23Issue(3)：422-424,3.
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材料科学与工程学报2005，Vol.23Issue(3)：422-424,3.

铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究

Wear and Morphologies of the SiOx Film on Aluminum Substrate

张际亮 1沃银花 1郦剑 1甘正浩2

作者信息

  • 1. 浙江大学材料科学与工程系,浙江,杭州,310027
  • 2. 新加坡南洋理工大学电气工程系,新加坡,639798
  • 折叠

摘要

关键词

铝基SiOx膜/APVCD/滑动磨损

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

张际亮,沃银花,郦剑,甘正浩..铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究[J].材料科学与工程学报,2005,23(3):422-424,3.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(50271065). （50271065）

材料科学与工程学报

OACSCD

1673-2812

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