人工晶体学报2004，Vol.33Issue(3)：422-427,6.
TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响
Influence of the TiAl Interlayer on TiAlN Coating Deposited by Arc Ion Plating
宋贵宏 1郑静地 2刘越 2孙超2
作者信息
- 1. 沈阳工业大学材料科学与工程学院,沈阳,110023
- 2. 中国科学院金属研究所,沈阳,110015
- 折叠
摘要
关键词
电弧离子镀/TiAlN膜层/织构/TiAl过渡层/结合强度/内应力分类
数理科学引用本文复制引用
宋贵宏,郑静地,刘越,孙超..TiAl过渡层对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响[J].人工晶体学报,2004,33(3):422-427,6.
