半导体学报2005，Vol.26Issue(1)：42-45,4.
硅基AlN薄膜制备技术与测试分析
Deposition and Characterization of AlN Thin Films on Silicon
摘要
关键词
AlN薄膜/直流磁控反应溅射/择优取向/半高宽分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
于毅,任天令,刘理天..硅基AlN薄膜制备技术与测试分析[J].半导体学报,2005,26(1):42-45,4.基金项目
国家重点基础研究发展规划(批准号:G1999033105),国家高技术研究发展计划(批准号:2002AA404500)资助项目 （批准号:G1999033105）
