半导体学报2007，Vol.28Issue(3)：430-434,5.
氧源的射频离化对ZnO MOCVD材料生长与性质的影响
Effects of Oxygen Source Ionization on the Growth and Properties of MOCVD ZnO Material
摘要
关键词
金属有机源化学气相沉积/光致发光/离化分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
李峰,顾书林,叶建东,朱顺明,张荣,郑有炓..氧源的射频离化对ZnO MOCVD材料生长与性质的影响[J].半导体学报,2007,28(3):430-434,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(批准号:60276011,60390073) （批准号:60276011,60390073）
