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基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响

张金伟 刁训刚 王怀义 黄俊 舒远杰

宇航材料工艺2007,Vol.37Issue(5):43-45,3.
宇航材料工艺2007,Vol.37Issue(5):43-45,3.

基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响

Influence of Deposition Temperature Upon Electrochromic Property of WO3 Films

张金伟 1刁训刚 1王怀义 1黄俊 1舒远杰2

作者信息

  • 1. 北京航空航天大学,北京,100083
  • 2. 中国工程物理研究院化工材料研究所,绵阳,621900
  • 折叠

摘要

关键词

低温/三氧化钨/电致变色/非晶态

分类

航空航天

引用本文复制引用

张金伟,刁训刚,王怀义,黄俊,舒远杰..基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响[J].宇航材料工艺,2007,37(5):43-45,3.

基金项目

国家自然科学基金重点项目(90305026) (90305026)

中国工程物理研究院双百人才基金(2005R0504) (2005R0504)

宇航材料工艺

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2330

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