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抗紫外线辐射机理及其产品开发

钟安华 邱佩琼 王东

印染助剂2002，Vol.19Issue(3)：43-45,3.
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印染助剂2002，Vol.19Issue(3)：43-45,3.

抗紫外线辐射机理及其产品开发

MECHANISM OF PROTECTION FROM ULTRAVIOLET RADIATION(UVR) AND PRODUCT DEVELOPMENT THEREOF

钟安华 1邱佩琼 1王东1

作者信息

  • 1. 武汉科技学院,湖北武汉,430073
  • 折叠

摘要

关键词

紫外线波长/防紫外线辐射/紫外线吸收剂/织物/整理

分类

化学化工

引用本文复制引用

钟安华,邱佩琼,王东..抗紫外线辐射机理及其产品开发[J].印染助剂,2002,19(3):43-45,3.

印染助剂

OA北大核心CSTPCD

1004-0439

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