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保护膜制备参数对其性能影响的实验研究

任红霞 胡江峰 郑德修

真空电子技术Issue(2)：44,1.
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真空电子技术Issue(2)：44,1.

保护膜制备参数对其性能影响的实验研究

任红霞 1胡江峰 2郑德修3

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子研究所
  • 2. 西安交通大学物理与器件研究所
  • 折叠

摘要

关键词

介质保护膜/工艺参数/表面特性/ACPDP

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

任红霞,胡江峰,郑德修..保护膜制备参数对其性能影响的实验研究[J].真空电子技术,1999,(2):44,1.

真空电子技术

1002-8935

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