淀积气压对脉冲激光淀积La掺杂钛酸铅薄膜介电性能的影响OA北大核心CSCDCSTPCD
The effect of oxygen pressure on the dielectric properties of pulsed laser deposited La-doped PbTiO3 thin film
利用脉冲激光淀积法在Pt/Ti／SiO2／Si衬底上制备了28mol％ La掺杂钛酸铅薄膜．采用不同的淀积氧气压，并分析了其对薄膜微观结构和介电性能的影响．结果表明，在2Pa左右的气压下淀积的薄膜具有好的结晶度和介电系数．在频率为10kHz时28mol％ La掺杂钛酸铅薄膜的介电系数达852，并且保持了较低的损耗．同时制备了其他La掺杂浓度的PbTiO3薄膜，发现它们也有类似的特点．对此作了定性解释．
胡大治;沈明荣
苏州大学物理科学与技术学院,薄膜材料江苏省重点实验室,苏州,215006苏州大学物理科学与技术学院,薄膜材料江苏省重点实验室,苏州,215006
数理科学
脉冲激光淀积PLT薄膜气压介电增强
《物理学报》 2004 (12)
4405-4409,5
国家自然科学青年基金(批准号:10204016)资助的课题.
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