电子器件2003，Vol.26Issue(4)：441-443,3.
成膜与热处理参数对溅射沉积ITO膜电性能的影响
Effect of Filming and Heat Treatment Parameter on Electronic Performance of Sputtered ITO Films
摘要
关键词
ITO膜/直流磁控反应溅射/热处理分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
张浩康,邓一唯..成膜与热处理参数对溅射沉积ITO膜电性能的影响[J].电子器件,2003,26(4):441-443,3.
