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铁电薄膜/半导体异质结构的研究进展

向飞 刘颖 朱时珍

人工晶体学报2005,Vol.34Issue(3):450-453,486,5.
人工晶体学报2005,Vol.34Issue(3):450-453,486,5.

铁电薄膜/半导体异质结构的研究进展

Research Progress in Ferroelectric Thin Film/Semiconductor Heterostructure

向飞 1刘颖 1朱时珍1

作者信息

  • 1. 北京理工大学材料科学与工程学院,北京,100081
  • 折叠

摘要

关键词

铁电薄膜/异质结构/缓冲层/界面/全钙钛矿

分类

数理科学

引用本文复制引用

向飞,刘颖,朱时珍..铁电薄膜/半导体异质结构的研究进展[J].人工晶体学报,2005,34(3):450-453,486,5.

人工晶体学报

OA北大核心CSCD

1000-985X

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