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φ300mm的大直径直拉单晶硅勾形磁场下生长的数值模拟

宇慧平 隋允康 张峰翊 常新安 安国平

无机材料学报2005,Vol.20Issue(2):453-458,6.
无机材料学报2005,Vol.20Issue(2):453-458,6.

φ300mm的大直径直拉单晶硅勾形磁场下生长的数值模拟

Numerical Simulation of a Czochralski Silicon Crystal Growth with a Large Diameter 300mm Under a Cusp Magnetic Field

宇慧平 1隋允康 1张峰翊 2常新安 3安国平1

作者信息

  • 1. 北京工业大学机电学院,北京,100022
  • 2. 北京有色金属研究总院,北京,100088
  • 3. 北京工业大学材料学院,北京,100022
  • 折叠

摘要

关键词

直拉法/勾形磁场/数值模拟

分类

数理科学

引用本文复制引用

宇慧平,隋允康,张峰翊,常新安,安国平..φ300mm的大直径直拉单晶硅勾形磁场下生长的数值模拟[J].无机材料学报,2005,20(2):453-458,6.

基金项目

北京工业大学青年科技基金(JQ0105200372) (JQ0105200372)

无机材料学报

OA北大核心CSCDSCI

1000-324X

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