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脉冲激光沉积Ti50Ni36Cu14薄膜的成分均匀性

李亚东 骆苏华 高伟健

材料科学与工程学报2005，Vol.23Issue(1)：45-47,3.
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材料科学与工程学报2005，Vol.23Issue(1)：45-47,3.

脉冲激光沉积Ti50Ni36Cu14薄膜的成分均匀性

Composition Uniformity of Pulse Laser Depositing Ti50 Ni36 Cu14 Films

李亚东 1骆苏华 2高伟健3

作者信息

  • 1. 苏州大学材料科学工程学院,江苏,苏州,215021
  • 2. 中科院上海微系统与信息技术研究所,上海,200050
  • 3. 苏州大学分析测试中心,江苏,苏州,215006
  • 折叠

摘要

关键词

PLD技术/Ti50Ni36Cu14/合金薄膜/成分均匀性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李亚东,骆苏华,高伟健..脉冲激光沉积Ti50Ni36Cu14薄膜的成分均匀性[J].材料科学与工程学报,2005,23(1):45-47,3.

基金项目

江苏省教育厅指导性项目(01KJD4300011) （01KJD4300011）

材料科学与工程学报

OACSCD

1673-2812

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