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衬底偏压对磁溅射生长氮化碳薄膜的影响

郑伟涛

吉林大学自然科学学报Issue(3):45-48,4.
吉林大学自然科学学报Issue(3):45-48,4.

衬底偏压对磁溅射生长氮化碳薄膜的影响

郑伟涛1

作者信息

  • 1. 吉林大学材料科学系
  • 折叠

摘要

关键词

氮化碳/薄膜/光外光谱/偏压/磁溅射/生长

分类

数理科学

引用本文复制引用

郑伟涛..衬底偏压对磁溅射生长氮化碳薄膜的影响[J].吉林大学自然科学学报,1996,(3):45-48,4.

吉林大学自然科学学报

1671-5489

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