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激光退火法低温制备多晶硅薄膜的研究

刘传珍 杨柏梁 李牧菊 吴渊 张玉 李轶华 邱法斌 黄锡珉

液晶与显示2000,Vol.15Issue(1):46-52,7.
液晶与显示2000,Vol.15Issue(1):46-52,7.

激光退火法低温制备多晶硅薄膜的研究

Study of p-Si Film Obtained at Low Temperatures by Excimer Laser Annealing

刘传珍 1杨柏梁 2李牧菊 1吴渊 2张玉 1李轶华 2邱法斌 1黄锡珉2

作者信息

  • 1. 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所
  • 2. 北方液晶工程研究开发中心,吉林长春,130021
  • 折叠

摘要

关键词

p-si薄膜/激光退火/能量密度

分类

数理科学

引用本文复制引用

刘传珍,杨柏梁,李牧菊,吴渊,张玉,李轶华,邱法斌,黄锡珉..激光退火法低温制备多晶硅薄膜的研究[J].液晶与显示,2000,15(1):46-52,7.

基金项目

中国科学院"九五"重大项目(KY95-A1-502)和吉林省科委"九五"科技攻关项目(970103-01)资助 (KY95-A1-502)

液晶与显示

OACSCD

1007-2780

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