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生长温度对In0.53Ga0.47As/InP的LPMOCVD生长影响

缪国庆 金亿鑫 蒋红 周天明 李树玮 元光 宋航

发光学报2002,Vol.23Issue(5):465-468,4.
发光学报2002,Vol.23Issue(5):465-468,4.

生长温度对In0.53Ga0.47As/InP的LPMOCVD生长影响

Effect of Growth Temperature on Properties of In0.53Ga0.47As/InP Grown by LPMOCVD

缪国庆 1金亿鑫 1蒋红 1周天明 1李树玮 1元光 1宋航1

作者信息

  • 1. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022
  • 折叠

摘要

关键词

铟镓砷/生长温度/低压金属有机化学气相沉积

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

缪国庆,金亿鑫,蒋红,周天明,李树玮,元光,宋航..生长温度对In0.53Ga0.47As/InP的LPMOCVD生长影响[J].发光学报,2002,23(5):465-468,4.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(5013202) (5013202)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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