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VHF-PECVD制备微晶硅薄膜及其微结构表征研究

张晓丹 高艳涛 赵颖 朱锋 魏长春 孙建 耿新华 熊绍珍

人工晶体学报2005，Vol.34Issue(3)：475-478,4.
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人工晶体学报2005，Vol.34Issue(3)：475-478,4.

VHF-PECVD制备微晶硅薄膜及其微结构表征研究

Fabrication of Microcrystalline Silicon Films by VHF-PECVD and Their Microstructure Study

张晓丹 1高艳涛 2赵颖 3朱锋 1魏长春 2孙建 3耿新华 1熊绍珍2

作者信息

  • 1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071
  • 2. 天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071
  • 3. 光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学)天津,300071
  • 折叠

摘要

关键词

甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)/微晶硅/衬底温度

分类

能源科技

引用本文复制引用

张晓丹,高艳涛,赵颖,朱锋,魏长春,孙建,耿新华,熊绍珍..VHF-PECVD制备微晶硅薄膜及其微结构表征研究[J].人工晶体学报,2005,34(3):475-478,4.

基金项目

国家重点基础研究发展规划(No.G2000028202,G2000028203) （No.G2000028202,G2000028203）

教育部重点项目(No.02167) （No.02167）

国家高技术研究发展计划(No.2002303261)资助 （No.2002303261）

人工晶体学报

OA北大核心CSCD

1000-985X

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