电化学2001，Vol.7Issue(4)：480-486,7.
铜在氨水介质铁氰化钾抛光液中CMP的电化学行为研究
Study on Electrochemical Behavior of Copper in NH3·H2O Solution Medium Including K3[Fe(CN)6] during CMP
胡岳华 1何捍卫 2黄可龙2
作者信息
- 1. 中南大学矿物工程系
- 2. 中南大学化学化工学院,
- 折叠
引用本文复制引用
胡岳华,何捍卫,黄可龙..铜在氨水介质铁氰化钾抛光液中CMP的电化学行为研究[J].电化学,2001,7(4):480-486,7.
