人工晶体学报2003，Vol.32Issue(5)：483-487,5.
Si中Nd离子热退火行为的深能级瞬态谱研究
Study on Thermal Annealing Behavior of Nd Ion Implanted Silicon by Deep Level Transient Spectroscopy
摘要
关键词
Nd离子注入/n型Si/深能级/热退火分类
化学化工引用本文复制引用
刘磁辉,林碧霞,王晓平,刘宏图,傅竹西..Si中Nd离子热退火行为的深能级瞬态谱研究[J].人工晶体学报,2003,32(5):483-487,5.基金项目
国家自然科学基金委员会重大研究计划重点项目资助(90201038) （90201038）
