|
国家科技期刊平台
|
注册
中文
EN
首页
|
期刊导航
|
半导体学报
|
强束流离子注入形成SOI结构时的温升效应的计算
强束流离子注入形成SOI结构时的温升效应的计算
田人和
顾永俶
卢武星
张荟星
半导体学报
Issue(8):484,1.
下载
✕
半导体学报
Issue(8)
:484,1.
强束流离子注入形成SOI结构时的温升效应的计算
田人和
1
顾永俶
1
卢武星
1
张荟星
1
作者信息
折叠
摘要
关键词
离子注入
/
SOI结构
/
温升效应
/
计算
分类
信息技术与安全科学
引用本文
复制引用
田人和,顾永俶,卢武星,张荟星..强束流离子注入形成SOI结构时的温升效应的计算[J].半导体学报,1993,(8):484,1.
半导体学报
OA
北大核心
CSCD
ISSN:
1674-4926
下载
访问量
0
|
下载量
0
段落导航
相关论文
摘要
关键词
分类
引用文本