西华大学学报（自然科学版）2007，Vol.26Issue(6)：48-51,4.
DMCPS/CHF3制备的F-SiCOH低k薄膜结构与沉积速率研究
Investigation on the Film Structure and Deposition Rate of Low k F-SiCOH Film Prepared by DMCPS/CHF3
摘要
关键词
低介电常数/SiCOH薄膜/氟掺杂分类
数理科学引用本文复制引用
王婷婷..DMCPS/CHF3制备的F-SiCOH低k薄膜结构与沉积速率研究[J].西华大学学报（自然科学版）,2007,26(6):48-51,4.基金项目
国家自然科学基金(No.10575074) （No.10575074）
苏州大学薄膜材料江苏省重点实验室资助的课题(No.10575074). （No.10575074）
