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应力对铋系铁电薄膜性能影响的研究进展

吴秀梅 吕笑梅 朱劲松

物理学进展2006,Vol.26Issue(3):490-494,5.
物理学进展2006,Vol.26Issue(3):490-494,5.

应力对铋系铁电薄膜性能影响的研究进展

PROGRESS IN THE STUDIES OF STRESS EFFECT ON THE PROPERTIES OF FERROELECTRIC THIN FILMS

吴秀梅 1吕笑梅 1朱劲松1

作者信息

  • 1. 南京大学固体微结构国家重点实验室,物理系,南京,210093
  • 折叠

摘要

关键词

应力效应/铋系铁电薄膜/铁电性能/开关与疲劳

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

吴秀梅,吕笑梅,朱劲松..应力对铋系铁电薄膜性能影响的研究进展[J].物理学进展,2006,26(3):490-494,5.

基金项目

国家自然科学基金(90401014,10021001,10574066) (90401014,10021001,10574066)

国家973项目(2002CB613303) (2002CB613303)

江苏省自然科学基金(No.BK2004084) (No.BK2004084)

物理学进展

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-0542

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