半导体学报2003，Vol.24Issue(5)：499-503,5.
等离子体-热丝CVD技术制备多晶硅薄膜
Poly-Si Thin Films Prepared by Plasma-Hot Wire CVD
摘要
关键词
等离子体-热丝CVD/多晶硅/薄膜结构/光学性质分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
刘丰珍,朱美芳,冯勇,刘金龙,汪六九,韩一琴..等离子体-热丝CVD技术制备多晶硅薄膜[J].半导体学报,2003,24(5):499-503,5.基金项目
国家重点基础研究发展规划(No.G2000028208)和国家自然科学基金(批准号:60076004)资助项目 （No.G2000028208）
