物理学报2004，Vol.53Issue(2)：503-507,5.
脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究
Preparation of titanium nitride films by pulsed high-energy-density plasma and investigation of the tribological behavior of the film
摘要
关键词
脉冲高能量密度等离子体/TiN膜/显微组织/耐磨性分类
数理科学引用本文复制引用
刘元富,张谷令,王久丽,刘赤子,杨思泽..脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究[J].物理学报,2004,53(2):503-507,5.基金项目
国家"863"计划(批准号:2002A331020)和国家自然科学基金(批准号:10275088)资助的课题. （批准号:2002A331020）
