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N 掺杂ZnO薄膜的接触特性

单正平 顾书林 朱顺明 刘伟 刘少波 刘雪冬 汤琨 张荣 郑有炓

发光学报2008,Vol.29Issue(3):503-507,5.
发光学报2008,Vol.29Issue(3):503-507,5.

N 掺杂ZnO薄膜的接触特性

The Ni/Au Contacts to N-doped ZnO

单正平 1顾书林 1朱顺明 1刘伟 1刘少波 1刘雪冬 1汤琨 1张荣 1郑有炓1

作者信息

  • 1. 南京大学物理系,江苏省光电信息功能材料重点实验室,江苏,南京,210093
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摘要

关键词

N'掺杂ZnO/Ni/Au/快速退火/欧姆接触

分类

数理科学

引用本文复制引用

单正平,顾书林,朱顺明,刘伟,刘少波,刘雪冬,汤琨,张荣,郑有炓..N 掺杂ZnO薄膜的接触特性[J].发光学报,2008,29(3):503-507,5.

基金项目

国家重点基础研究规划(2006CB921803) (2006CB921803)

中国高科技发展研究项目(2007AA03Z404) (2007AA03Z404)

国家自然科学基金(60776013, 60576017,50532100)资助项目 (60776013, 60576017,50532100)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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