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半导体学报
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GaAs表面钝化的新方法:S2Cl2 处理
GaAs表面钝化的新方法:S2Cl2 处理
李喆深
蔡卫中
苏润洲
侯晓远
董国胜
金晓峰
丁训民
王迅
半导体学报
Issue(7)：505,1.
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半导体学报
Issue(7)
：505,1.
GaAs表面钝化的新方法:S2Cl2 处理
李喆深
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蔡卫中
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李喆深,蔡卫中,苏润洲,侯晓远,董国胜,金晓峰,丁训民,王迅..GaAs表面钝化的新方法:S2Cl2 处理[J].半导体学报,1994,(7):505,1.
半导体学报
OA
北大核心
CSCD
ISSN：
1674-4926
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