云南师范大学学报（自然科学版）2009，Vol.29Issue(1)：50-52,3.
镓聚焦离子束研磨Cu薄膜的模拟
Simulation for Sputtering yield of Cu thin Film Milled by Ga Ions Focused Ion Beam
杨黎东 1李景东2
作者信息
- 1. 保山高等师范专科学校计科系,云南,保山,678000
- 2. 云南省电子工业研究所,云南,昆明,650031
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摘要
关键词
蒙特卡罗方法/溅射产额/聚焦离子束/模拟分类
数理科学引用本文复制引用
杨黎东,李景东..镓聚焦离子束研磨Cu薄膜的模拟[J].云南师范大学学报（自然科学版）,2009,29(1):50-52,3.
