发光学报2002，Vol.23Issue(5)：513-517,5.
新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究
Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide
田景全 1姜德龙 1孙秀平 1富丽晨 1但唐仁 1李野 1卢耀华 1端木庆铎1
作者信息
- 1. 长春理工大学光电子技术研究所,吉林,长春,130022
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摘要
关键词
变密度/卤化物/X射线光阴极/微通道板分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
田景全,姜德龙,孙秀平,富丽晨,但唐仁,李野,卢耀华,端木庆铎..新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究[J].发光学报,2002,23(5):513-517,5.
