人工晶体学报2009，Vol.38Issue(2)：535-538,4.
HgInTe晶片表面化学抛光研究
Study on Surface Chemical Polishing of HgInTe Wafers
摘要
关键词
HgInTe/化学抛光/腐蚀速率/表面粗糙度分类
数理科学引用本文复制引用
杨杨,王领航,介万奇,王亚彬,傅莉..HgInTe晶片表面化学抛光研究[J].人工晶体学报,2009,38(2):535-538,4.基金项目
国家高技术研究发展计划(863)(No. 2007AA03Z442) （863）
西北工业大学博士创新基金(CX200606) （CX200606）
西北工业大学研究生种子基金(Z200612)资助项目 （Z200612）
