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Ge1-xCx薄膜的制备及红外特性的研究

吴小文 张维佳 钟立志 黄浩

材料工程Issue(1):53-57,5.
材料工程Issue(1):53-57,5.

Ge1-xCx薄膜的制备及红外特性的研究

Preparation of Ge1-xCx Thin Film and Its Infrared Properties

吴小文 1张维佳 1钟立志 1黄浩1

作者信息

  • 1. 北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083
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摘要

关键词

Ge1-xCx薄膜/PECVD/红外特性/沉积速率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

吴小文,张维佳,钟立志,黄浩..Ge1-xCx薄膜的制备及红外特性的研究[J].材料工程,2005,(1):53-57,5.

基金项目

航空基金(02D51066) (02D51066)

材料工程

OA北大核心CSCD

1001-4381

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