物理学报2007，Vol.56Issue(9)：5400-5407,8.
立方氮化硼薄膜生长过程中的界面控制
Controlling the interfacial structure of cubic boron nitride thin film prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
摘要
关键词
立方氮化硼薄膜/等离子体化学气相生长/界面/电子显微镜分类
数理科学引用本文复制引用
杨杭生,谢英俊..立方氮化硼薄膜生长过程中的界面控制[J].物理学报,2007,56(9):5400-5407,8.基金项目
浙江省自然科学基金(批准号:Y405051)和浙江省教育厅(批准号:20061365)资助的课题. （批准号:Y405051）
