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碳纳米管场发射阴极的厚膜工艺研究

王琪琨 朱长纯 田昌会 史永胜

电子器件2004,Vol.27Issue(4):543-546,4.
电子器件2004,Vol.27Issue(4):543-546,4.

碳纳米管场发射阴极的厚膜工艺研究

Study of Thick Film Process for Carbon Nanotubes Field Emission Cathode

王琪琨 1朱长纯 1田昌会 1史永胜1

作者信息

  • 1. 西安交通大学电子与信息工程学院,西安,710049
  • 折叠

摘要

关键词

碳纳米管阴极/厚膜工艺/银浆/场发射

分类

数理科学

引用本文复制引用

王琪琨,朱长纯,田昌会,史永胜..碳纳米管场发射阴极的厚膜工艺研究[J].电子器件,2004,27(4):543-546,4.

基金项目

国家自然科学基金重点项目(No.60036010),西安交通大学自然科学基金项目(No.0900 573035)资助课题. (No.60036010)

电子器件

OACSCD

1005-9490

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