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具有场板结构的AlGaN/GaN HEMT的直流特性

魏珂 刘新宇 和致经 吴德馨

半导体学报2008,Vol.29Issue(3):554-558,5.
半导体学报2008,Vol.29Issue(3):554-558,5.

具有场板结构的AlGaN/GaN HEMT的直流特性

DC Characteristics of A1GaN/GaN HEMTs with a Field Plate Gate

魏珂 1刘新宇 1和致经 2吴德馨1

作者信息

  • 1. 中国科学院微电子研究所,北京,100029
  • 2. 中国科学院半导体研究所,北京,100083
  • 折叠

摘要

关键词

AIGaN/GaN/高迁移率晶体管/肖特基特性/击穿电压/场板结构

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

魏珂,刘新宇,和致经,吴德馨..具有场板结构的AlGaN/GaN HEMT的直流特性[J].半导体学报,2008,29(3):554-558,5.

基金项目

国家重点基础研究发展计划(批准号:2002CB311903,G20000683)和中国科学院重点创新(批准号:KGCX2-SW-107)资助项目 (批准号:2002CB311903,G20000683)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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