PZY铁电薄膜材料的ECR等离子体刻蚀研究

娄利飞肖斌汪家友杨银堂李跃进

西安电子科技大学学报（自然科学版）2005，Vol.32Issue(4)：555-558,598,5.

Study of the ECR plasma etching process of PZT ferroelectric thin film materials

娄利飞 ¹肖斌 ¹汪家友 ¹杨银堂 ¹李跃进¹

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电子回旋共振/等离子体刻蚀/锆钛酸铅/凝胶-溶胶工艺

信息技术与安全科学

娄利飞,肖斌,汪家友,杨银堂,李跃进..PZY铁电薄膜材料的ECR等离子体刻蚀研究[J].西安电子科技大学学报（自然科学版）,2005,32(4):555-558,598,5.

国家自然科学基金资助项目(90207022) （90207022）

国家部委预研基金资助项目(51411040105DZ0141) （51411040105DZ0141）

OA北大核心CSCD

ISSN：1001-2400

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