|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|人工晶体学报|沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响

沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响

于军 王晓晶 雷青松 彭刚 徐玮

人工晶体学报2009，Vol.38Issue(3)：556-560,5.
✕
人工晶体学报2009，Vol.38Issue(3)：556-560,5.

沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响

Effects of Deposition Pressure on Nanocrystalline Silicon Thin Film by Magnetron Sputtering

于军 1王晓晶 1雷青松 2彭刚 1徐玮1

作者信息

  • 1. 华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074
  • 2. 湖北省光伏工程技术研究中心,武汉,430074
  • 折叠

摘要

关键词

氢化纳米硅/磁控溅射/沉积压力/光学带隙

分类

数理科学

引用本文复制引用

于军,王晓晶,雷青松,彭刚,徐玮..沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响[J].人工晶体学报,2009,38(3):556-560,5.

基金项目

国家自然科学基金重大资助项目(No.90407023) （No.90407023）

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文