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非晶态碲镉汞薄膜的射频磁控溅射生长及其晶化过程研究

孔金丞 孔令德 赵俊 张鹏举 李竑志 李雄军 王善力 姬荣斌

红外技术2007,Vol.29Issue(10):559-562,4.
红外技术2007,Vol.29Issue(10):559-562,4.

非晶态碲镉汞薄膜的射频磁控溅射生长及其晶化过程研究

Studies of Deposition and Crystallization of RF Magnetron Sputtered Amorphous HgCdTe films

孔金丞 1孔令德 1赵俊 1张鹏举 1李竑志 1李雄军 1王善力 1姬荣斌1

作者信息

  • 1. 昆明物理研究所,昆明,云南,650023
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摘要

关键词

非晶态碲镉汞/射频磁控溅射/晶化

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

孔金丞,孔令德,赵俊,张鹏举,李竑志,李雄军,王善力,姬荣斌..非晶态碲镉汞薄膜的射频磁控溅射生长及其晶化过程研究[J].红外技术,2007,29(10):559-562,4.

基金项目

国家自然科学基金项目(项目编号:60576069) (项目编号:60576069)

红外技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-8891

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