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ECR—PECVD制备Si3N4薄膜的特性及其应用的研究

任兆杏

电子学报Issue(2)：56,1.
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电子学报Issue(2)：56,1.

ECR—PECVD制备Si3N4薄膜的特性及其应用的研究

任兆杏1

作者信息

  • 1. 不详;不详
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摘要

关键词

ECR－PECVD/钝化膜/光学特性/氮化硅

分类

数理科学

引用本文复制引用

任兆杏..ECR—PECVD制备Si3N4薄膜的特性及其应用的研究[J].电子学报,1996,(2):56,1.

基金项目

国家自然科学基金委基金 （）

电子学报

OA北大核心CSCD

0372-2112

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