人工晶体学报2006，Vol.35Issue(3)：560-564,5.
纳米晶粒多晶Si薄膜的低压化学气相沉积
Low Pressure Chemical Vapor Deposition of Nanograin Polysilicon Thin Films
摘要
关键词
LPCVD/纳米晶粒/多晶Si膜/结晶成核/晶粒融合分类
数理科学引用本文复制引用
彭英才,马蕾,康建波,范志东,简红彬..纳米晶粒多晶Si薄膜的低压化学气相沉积[J].人工晶体学报,2006,35(3):560-564,5.基金项目
河北省自然科学基金(No.503125)和中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室开放课题资助 （No.503125）
