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六硼化镧薄膜场致发射的特性

朱炳金 陈泽祥 张强 王小菊 于涛

发光学报2008,Vol.29Issue(3):561-566,6.
发光学报2008,Vol.29Issue(3):561-566,6.

六硼化镧薄膜场致发射的特性

Field Emission Characteristics of LaB6 Film

朱炳金 1陈泽祥 1张强 1王小菊 1于涛1

作者信息

  • 1. 电子科技大学,光电信息学院,四川,成都,610054
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摘要

关键词

六硼化镧/硅尖锥阵列/电子束蒸发/场致发射/阵列薄膜

分类

数理科学

引用本文复制引用

朱炳金,陈泽祥,张强,王小菊,于涛..六硼化镧薄膜场致发射的特性[J].发光学报,2008,29(3):561-566,6.

基金项目

教育部留学回国人员启动基金资助项目 ()

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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