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刻蚀深度对Si衬底GaN基蓝光LED性能的影响

张萍 刘军林 郑畅达 江风益

半导体学报2008,Vol.29Issue(3):563-565,3.
半导体学报2008,Vol.29Issue(3):563-565,3.

刻蚀深度对Si衬底GaN基蓝光LED性能的影响

Influence of Etching Depth on Characteristics of GaN/Si Blue LEDs

张萍 1刘军林 1郑畅达 1江风益1

作者信息

  • 1. 南昌大学材料科学研究所教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047
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摘要

关键词

蓝光LED/GaN/Si衬底/快速老化/刻蚀/静电

分类

数理科学

引用本文复制引用

张萍,刘军林,郑畅达,江风益..刻蚀深度对Si衬底GaN基蓝光LED性能的影响[J].半导体学报,2008,29(3):563-565,3.

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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