湖南大学学报（自然科学版）2007，Vol.34Issue(1)：56-59,4.
快速退火炉离子注入退火工艺设计
Design of Rapid Thermal Processing for Ions Implanted Silicon
摘要
关键词
快速热退火/离子注入/硅片分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
杨红官,文利群,许诚,曾云..快速退火炉离子注入退火工艺设计[J].湖南大学学报（自然科学版）,2007,34(1):56-59,4.基金项目
湖南省普通高校青年骨干教师基金(湘教通[2005]247号)和湖南大学自然科学基金重点项目(No.:521101805)资助课题 （湘教通[2005]247号）
